招聘人数：1
岗位类型：应届校招
学历要求：硕士及以上

岗位职责
1、 负责微纳半导体器件制备光刻工艺的开发，包括涂胶，曝光，显影等工艺；
2、 负责光刻工艺实验设计并执行，并对工艺进行详细的表征，包括涂胶工艺参数，光刻曝光工艺参数，显影工艺参数，负责采集数据、数据分析，对工艺进行持续的优化、监控以及维护；
3、 制定工艺方法、操作流程和规范，建立相关的作业指导书与技术文件，指导和培养技术人员，撰写培训资料，对现场操作人员进行相关的基础培训、操作培训和考核； 
4、 主导工艺在线异常根本原因分析，提出改进计划，解决方案，并主导解决方案的执行，导入，跟进；
5、 负责器件光罩图案（MASK）设计，Tape out, 光罩管理等； 
6、 负责新设备（涂胶设备，曝光设备，显影设备，CD/overlay测量设备），新工艺，新物料(光刻胶，显影液等) 的调研，评估，论证，导入，验证等；
7、 对应不同的研发项目，负责制定项目对应的工艺研发计划，和长期的研发规划，及时与项目组对齐，保证项目研发进度；
8、 负责微纳器件制备技术光刻工艺需求调研、分析，文献综述等。总结、归纳当前状态，存在问题，提出创新性，可行性解决方案，并主导、跟进方案的实施；
9、 撰写学术论文，技术报告，将研究成果发表在相关领域的期刊上，将创新性成果申请专利。

岗位要求
1、 全日制硕士及以上学历、博士优先、材料、机械工程、物理，化学、电气，、电子，、微电子，微纳加工、半导体等相关专业；
2、 了解半导体微纳器件工艺开发及原理，熟悉半导体开发，制造，生产基础知识，5年以上微纳器件制备加工工艺开发经验，或5年以上Fab厂光刻工艺开发经验，有8寸或12寸工作经验优先；
3、 熟悉业界主流光刻涂胶，曝光，显影设备及其性能，具有丰富的光刻工艺研发工作经验，熟悉ASML、Nikon、Canon Scanner/Stepper, SUSS, EVG Aligner, TEL ACT8 Track, CDSEM、CD/Overlay 等光刻设备结构、操作等；
4、 熟悉光刻工艺的光罩图案设计，光罩制造，光罩管理；
5、 具有良好的逻辑分析能力、书面表达能力、人际沟通能力，PPT汇报，以及良好的英文阅读及书写能力；
6、 优秀的团队精神、交流能力，具备良好的沟通协调能力，积极主动，能与团队协同高效完成任务。