2025 年 7 月 4 日甬江实验室信息材料与微纳器件制备平台（以下简称微纳平台）举办了 “微纳器件光刻解决方案” 专题交流会。本次交流会以“光刻”为主题，特邀直写光刻领域龙头企业 RAITH 与 接触式光刻领域龙头企业SUSS MicroTec 的技术专家，共同探讨光刻技术在微纳器件领域的前沿应用，吸引了产学研各界专业人士热情参与。
微纳平台负责人钟飞作为主持人进行了开场介绍，作为省级实验室创建的共享开放的半导体器件加工平台，微纳平台身负推动半导体产业技术创新及促进产学研协同创新的责任，钟飞表示，本次邀请RAITH和SUSS两大光刻领域代表共同开展技术专题交流会，目的就是希望能构建 “设备技术 - 工艺开发 - 产业应用” 的共享交流平台。
行业龙头技术赋能：RAITH 与 SUSS 的光刻技术优势解析
交流会首先由RAITH中国销售经理陈晨先生进行《直写光刻技术介绍（电子束，激光束，聚焦离子束）》的报告，围绕直写光刻技术，从技术原理、技术创新到应用展示，系统展示了 RAITH 在直写光刻领域的技术优势，展现了其在量子器件、微纳光学元件等领域的复杂图形图案化上的极致分辨率、稳定性以及高效率。
第二位分享报告的是 SUSS MicroTec华东区客户经理顾轶峰先生，他带来的是《基于最新接近接触式光刻技术的新颖应用开发》，深度诠释了 SUSS 在微米级光刻领域的技术创新。其最新一代接近接触式光刻系统，通过独创的光学匀光技术，可实现薄胶至超厚胶的均匀曝光，尤其在金属互连层图形化、MEMS、PCB等领域展现出技术优势。其独具特色的倾斜光源系统，可实现在结构侧壁进行曝光，为超厚胶曝光以及倾斜光栅光刻注入新思想。
紧接着，由微纳平台研究员张瓦利做报告，他带来了《从工艺到平台：甬江实验室光刻能力体系构建与应用实践》的报告，系统介绍微纳平台在光刻领域的研究与能力建设，重点展示平台覆盖不同衬底与图形尺度的光刻全流程加工能力，及其在异质异构、微纳光学、光电子器件等领域的应用，并发布了平台的标准光刻工艺以及厚胶曝光、负胶工艺、光刻胶微球工艺等特色工艺。
最后由甬江实验室激光微纳制造与测量研究组助理研究员雷雨作《双光子聚合技术与原位测量》的报告，研究组采用双光子聚合技术打印光子引线，结合扫描电镜定量表征其尺寸，探索最佳模型尺寸以及打印工艺，可实现设计-制造过程的综合优化；目前研究组已开发多款新型光刻胶，显著提升聚合灵敏性与打印结构力学性能，助力半导体及微纳制造工艺突破，推动行业技术升级。
此次专题交流会的成功举办，为光刻技术在微纳器件制备领域的研究与应用提供了良好的交流平台。钟飞表示，微纳平台未来将继续聚焦光刻技术创新，联合行业龙头企业与科研机构，加速科研成果从实验室向市场的转化，推动半导体产业链高质量发展。